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NanoCVD-8G台式石墨烯

作者:admina来源:时间:2021-01-07 15:33:19浏览量:284人阅读

   NanoCVD-8G台式石墨烯/ CNT合成器
产品特点: 台式石墨烯/ CNT合成器
◉型号NanoCVD-8G(用于石墨烯合成)
◉型号NanoCVD-8N(用于碳纳米管)
无需使用大型制造设备,每批只需30分钟即可轻松实现石墨烯/ CNT合成。
CVD方法(化学气相沉积)
CVD法是已经为多种目的而建立的稳定技术,并且当考虑将来石墨烯和CNT的大规模合成时是最现实的方法。

台式石墨烯/ CNT合成器 的详细介绍
台式石墨烯/ CNT合成器
特性
无需使用大型制造设备即可轻松进行石墨烯/ CNT(SWNT)成膜实验。
每批仅30分钟!
冷壁型高效,高精度的过程控制
快速升温:RT→1100℃/约3分钟
具有高精度温度流量控制和出色重现性的高性能机器
操作简便!5英寸触摸屏可进行操作和配方管理
最多可以创建和保存30个配方,30个合成程序步骤
专用软件为标准设备,输出为CSV文件在PC上记录数据
USB电缆连接,在PC端创建配方→可以上传到设备
   
      
      
  外型尺寸
   
      
      
  主要规格
A.主要规格   
1.反应室  不锈钢SUS304泄漏检查 
2.加热阶段  陶瓷制成 
3.相应的样本量  20 x 40毫米 
4.加热加热器  高纯石墨加热器Max1050℃ 
5.温度控制  K型热电偶标准附件(安装在加热台下) 
    
B.过程控制设备规格   
1.气体控制  质量流量控制器x 3(Ar,H2,CH4) 
2.压力控制  20托FS 
3.真空排气  包括爱德华兹旋转泵RV3(3立方米/小时) 
4.操作面板  正面安装5英寸触摸屏(欧姆龙制造) 
5.风冷  用冷却风扇冷却外壳内部 
6.控制系统  PLC自动过程控制 
    
C.软件(标准附件)   
1. nanoCVD软件  标配(已安装石墨烯的标准程序) 
2.界面  USB 2.0连接 
3.设置数  最多30个配方,30个程序创建和保存步骤 
    
D.气体导入连接规格   
1.工艺气体  1/4英寸世伟洛克卡套管接口,用于Ar,H2,CH4 x 3 
2.载气  Φ6mm推锁式管接头,用于N2或Ar x 1 
    
E.安全装置   
1.过热  由加热台安装热电偶控制 
2.机壳内部过热  从内部温度开关 
3.气压异常  来自质量流量控制器 
4.真空度降低  来自真空传感器 
    
F.实用程序   
电源  AC200V单相50 / 60Hz 13A 
1.工艺气压  30psi 200sccm以下 
2.载气压力  60-80磅/平方英寸 
    
G.尺寸/重量   
1.尺寸  405mm(宽)x 415mm(深)x 280mm(高) 
2.重量  约27公斤 
   
      
nanoCVD-8G(石墨烯)
纳米CVD-8N(CNT)

带旋转泵的nanoCVD-8G
通过CVD化学气相沉积法在短时间内在金属基底催化剂(Cu,Ni箔等)上合成单层石墨烯膜。nanoCVD-8G的基本操作方案是在石墨平台上以醉高1100°C的高温烘烤,并在减压下供应原料气体(甲烷),氮气和氢气。

◇◆标准设备配置◆◇
●用于石墨烯生成,真空过程控制
●标配旋转泵(选件:TMP,扩散泵或干泵)
● 3个供气系统(标准)
●样品台最大1100℃
● K型热电偶

*以下选项也可满足其他要求的实验目的(单独讨论)。
●增加气体导入口(改变和增加气体种类)
●增加干泵系统
●增加额外的腔室/加热台并改变台结构

使用nanoCVD-8G样品加热台] [nanoCVD-8G后面板]生产的石墨烯的拉曼光谱



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